HiPIMS,低溫ITO沉積的機(jī)會(huì)!
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新鉑科技(東莞)有限公司成立于2020 年底,是新鉑科技的主要生產(chǎn)基地,具有4條組裝生產(chǎn)線和5條檢測(cè)調(diào)試線,廠房面積2000+,現(xiàn)有員工20+。是國(guó)內(nèi)專業(yè)從事真空鍍膜系統(tǒng)的研發(fā)、制造、銷(xiāo)售為一體的國(guó)家級(jí)高新技術(shù)企業(yè)。其研發(fā)中心位于東莞市松山湖大學(xué)創(chuàng)新城,其研發(fā)人員均為碩士以上學(xué)歷(其中博士6人),在相關(guān)領(lǐng)域發(fā)表學(xué)術(shù)論文300余篇。
研發(fā)人員占比
發(fā)布學(xué)術(shù)論文
客戶好評(píng)
課題合作研發(fā)
定制開(kāi)發(fā)項(xiàng)目
新鉑科技出席了2025年8月19-22在蘇州召開(kāi)的30屆國(guó)際熱處理和表面工程大會(huì),公司CTO做了“power supply of High power impulse magnetron sputtering and recent applications”的主旨報(bào)告,對(duì)于國(guó)內(nèi)外的嘉賓分享了我們?cè)贖ipims研究領(lǐng)域包括電源和應(yīng)用端的新進(jìn)展。...
新鉑公司CTO 2025年8月24日赴東莞麻涌鎮(zhèn)豪豐環(huán)保產(chǎn)業(yè)園參加了“電鍍金新技術(shù)”專題研討會(huì),交流了真空鍍金的高能脈沖濺射電源及應(yīng)用技術(shù)。...
12月14日,由松山湖材料實(shí)驗(yàn)室、哈爾濱工業(yè)大學(xué)材料結(jié)構(gòu)精密焊接與連接全國(guó)重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室以及等離子體放電團(tuán)隊(duì)孵化的高能脈沖PVD電源企業(yè)新鉑科技(東莞)有限公司聯(lián)合主辦的“2024大灣區(qū)高能脈沖PVD高峰論壇”在松山湖材料實(shí)驗(yàn)室會(huì)議中心成功舉行。...
12月14日,“2024大灣區(qū)高能脈沖PVD論壇”在松山湖材料實(shí)驗(yàn)室舉辦。此次論壇由松山湖材料實(shí)驗(yàn)室、材料結(jié)構(gòu)精密焊接與連接全國(guó)重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室聯(lián)合舉辦,由高能脈沖PVD電源的領(lǐng)軍企業(yè)新鉑科技東莞有限公司提供支持。...
真空磁控濺射涂層技術(shù)不同于真空蒸發(fā)涂層技術(shù)。濺射是指核能顆粒轟擊固體表面(目標(biāo)),使固體原子或分子從表面射出的現(xiàn)象。...
HIPiMS技術(shù)(高功率脈沖磁控濺射技術(shù))對(duì)材料性能的影響主要體現(xiàn)在薄膜的微觀結(jié)構(gòu)、致密度、機(jī)械性能以及功能特性等方面。...
在工業(yè)領(lǐng)域,像高功率脈沖激光加工設(shè)備,為實(shí)現(xiàn)材料切割、焊接或表面處理,其脈沖頻率一般在幾十赫茲到幾千赫茲。例如切割薄金屬板材時(shí),幾十赫茲的脈沖頻率能在保證切割質(zhì)量的同時(shí),有效控制熱影響區(qū)域,防止板材因過(guò)熱變形。...
在化學(xué)氣相沉積(CVD)真空鍍膜中,反應(yīng)氣體的選擇與配比宛如一雙無(wú)形卻有力的大手,對(duì)鍍膜的成分和性能起著決定性作用。...
設(shè)備精度保障:使用高精度的鍍膜設(shè)備,如采用電子束蒸發(fā)或磁控濺射設(shè)備,其厚度控制精度可達(dá)納米級(jí)。這些設(shè)備配備膜厚監(jiān)測(cè)儀,實(shí)時(shí)反饋膜層生長(zhǎng)情況,控制提供硬件基礎(chǔ)。...
在石油行業(yè),人們正在努力提高原油回收效率。例如,注入二氧化碳可以將原油的生產(chǎn)效率提高10%~15%。然而,隨著石油產(chǎn)量的增加,也面臨著更多的挑戰(zhàn),管道腐蝕是其中之一。對(duì)于二氧化碳增強(qiáng)采收率(EOR)技術(shù),生產(chǎn)油水混合物因高壓與二氧化碳過(guò)飽和而酸化,...
真空鍍膜技術(shù)實(shí)現(xiàn)多層膜的沉積主要通過(guò)以下幾種方式: 一、交替沉積法...
一般來(lái)說(shuō),真空鍍膜可以具有較好的附著力。這主要是因?yàn)樵谡婵窄h(huán)境下,鍍膜材料的原子或分子能夠以較高的能量和純凈度沉積在基材表面。與傳統(tǒng)的鍍膜方法相比,真空鍍膜減少了雜質(zhì)和氧化的影響,從而有利于提高鍍膜與基材之間的結(jié)合力。...
HiPIMS(高功率脈沖磁控濺射,High Power Impulse Magnetron Sputtering)是一種薄膜沉積技術(shù),它利用高頻脈沖電源產(chǎn)生的高密度等離子體來(lái)進(jìn)行材料的濺射沉積。相較于傳統(tǒng)的直流磁控濺射(DCMS),HiPIMS技術(shù)具有更高的離子化率、更好的薄膜質(zhì)量以及更均勻的薄膜厚度等優(yōu)點(diǎn)。因此,HiPIMS技術(shù)在薄膜沉積領(lǐng)域得到了廣泛的應(yīng)用,尤其是在制備高質(zhì)量、高性能薄膜材料方面表現(xiàn)突出。...